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簡(jiǎn)要描述：制氮裝置等氮氣純化設備純氣含過(guò)量氫，適合需還原性氣氛的應用，氫含量可調。原理簡(jiǎn)單，結構合理，能耗低，氣體指標溫度，雜質(zhì)含量低，可選配自動(dòng)系統，實(shí)現無(wú)人值守，應用范圍廣，對原料氣無(wú)特殊要求。
產(chǎn)品型號：廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家 更新時(shí)間：2021-07-28訪(fǎng) 問(wèn) 量：1495 產(chǎn)品分類(lèi)
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| 品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應用領(lǐng)域 | 醫療衛生,環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),農業(yè) |
制氮裝置等氮氣純化設備原理；
O2 + H2 ----- HO2
利用氧氣和氫氣在催化劑作用下反應生成水的原理，在氮氣中加入氫氣，混合氣在裝有高效的催化劑的除氧器中反應，去除氧雜質(zhì)，再經(jīng)過(guò)冷卻、吸附兩級干燥除水，得到高純氮氣。
制氮裝置等氮氣純化設備特點(diǎn)：
● 純氣含過(guò)量氫，適合需還原性氣氛的應用，氫含量可調。
● 原理簡(jiǎn)單，結構合理，能耗低
● 氣體指標溫度，雜質(zhì)含量低
● 可選配自動(dòng)系統，實(shí)現無(wú)人值守
● 應用范圍廣，對原料氣無(wú)特殊要求
技術(shù)指標：
普通氮氣：
● 壓力—— 0.6~0.7Mpa
● 常壓露點(diǎn)—— 無(wú)要求
● 氧含量——≤3%
● 處理氣量——10～5000Nm3/hr
高純氮氣：
● 壓力—— 0.5~0.6Mpa(可調)
● 常壓露點(diǎn)——≤－70℃
● 氧含量——≤3ppm
● 氫含量—— 500~2000ppm
● 氮氣量——10～5000Nm3/hr
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